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第三代半導(dǎo)體材料興起與未來(lái)

發(fā)布時(shí)間:2019-11-28發(fā)布人:瀏覽:
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硅的瓶頸與寬禁帶半導(dǎo)體的興起

1、 Si 材料的歷史與瓶頸

上世紀(jì)五十年代以來(lái),以硅(Si)材料為代表的第一代半導(dǎo)體材料取代了笨重的電子管引發(fā)了集成電路(IC)為核心的微電子領(lǐng)域迅速發(fā)展。然而,由于硅材料的帶隙較窄、電子遷移率和擊穿電場(chǎng)較低,Si 在光電子領(lǐng)域和高頻高功率器件方面的應(yīng)用受到諸多限制,在高頻下工作性能較差,不適用于高壓應(yīng)用場(chǎng)景,光學(xué)性能也得不到突破。

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▲硅材料面臨諸多性能限制

隨著 Si 材料的瓶頸日益突出,以砷化鎵(GaAs)為代表的第二代半導(dǎo)體材料開(kāi)始嶄露頭角,使半導(dǎo)體材料的應(yīng)用進(jìn)入光電子領(lǐng)域,尤其是在紅外激光器和高亮度的紅光二極管等方面。第三代半導(dǎo)體材料的興起,則是以氮化鎵(GaN)材料 p 型摻雜的突破為起點(diǎn),以高亮度藍(lán)光發(fā)光二極管(LED)和藍(lán)光激光器(LD)的研制成功為標(biāo)志,包括 GaN、碳化硅(SiC)和氧化鋅(ZnO)等寬禁帶材料。

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▲半導(dǎo)體材料特性對(duì)比

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▲半導(dǎo)體材料與器件發(fā)展史

第三代半導(dǎo)體(本文以 SiC 和 GaN 為主)又稱寬禁帶半導(dǎo)體,禁帶寬度在 2.2eV 以上,具有高擊穿電場(chǎng)、高飽和電子速度、高熱導(dǎo)率、高電子密度、高遷移率等特點(diǎn),逐步受到重視。SiC 與 GaN 相比較,前者相對(duì) GaN 發(fā)展更早一些,技術(shù)成熟度也更高一些;兩者有一個(gè)很大的區(qū)別是熱導(dǎo)率x,這使得在高功率應(yīng)用中,SiC 占據(jù)統(tǒng)治地位;同時(shí)由于 GaN具有更高的電子遷移率,因而能夠比 SiC 或 Si 具有更高的開(kāi)關(guān)速度,在高頻率應(yīng)用領(lǐng)域,GaN 具備優(yōu)勢(shì)。

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▲SiC、 GaN 與 Si 性能差異

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▲SiC、 GaN 與 Si 各有優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域

 

2、 SiC/GaN:穩(wěn)定爬升的光明期

雖然學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界很早認(rèn)識(shí)到 SiC和 GaN相對(duì)于傳統(tǒng)Si 材料的優(yōu)點(diǎn),但是由于制造設(shè)備、制造工藝與成本的劣勢(shì),多年來(lái)只是在小范圍內(nèi)得到應(yīng)用,無(wú)法挑戰(zhàn) Si 基器件的統(tǒng)治地位,但是隨著 5G、汽車等新市場(chǎng)出現(xiàn),SiC/GaN 不可替代的優(yōu)勢(shì)使得相關(guān)產(chǎn)品的研發(fā)與應(yīng)用加速;隨著制備技術(shù)的進(jìn)步,SiC 與 GaN 器件與模塊在成本上已經(jīng)可以納入備選方案內(nèi),需求拉動(dòng)疊加成本降低, SiC/GaN 的時(shí)代即將迎來(lái)。

 

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 ▲SiC 與 GaN 處于穩(wěn)步爬升的光明期

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SiC:極限功率器件的理想材料

1、 SiC:極限功率器件的理想的材料

SiC 是由硅和碳組成的化合物半導(dǎo)體材料,在熱、化學(xué)、機(jī)械方面都非常穩(wěn)定。C 原子和 Si 原子不同的結(jié)合方式使 SiC 擁有多種晶格結(jié)構(gòu),如4H、6H、3C 等等。4H-SiC 因?yàn)槠漭^高的載流子遷移率,能夠提供較高的電流密度,常被用來(lái)做功率器件。

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▲三種不同的 SiC 結(jié)構(gòu)
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▲SiC 晶圓

SiC 從上個(gè)世紀(jì) 70 年代開(kāi)始研發(fā),2001 年 SiC SBD 商用,2010 年 SiCMOSFET 商用,SiC IGBT 還在研發(fā)當(dāng)中。隨著 6 英寸 SiC 單晶襯底和外延晶片的缺陷降低和質(zhì)量提高,使得 SiC 器件制備能夠在目前現(xiàn)有 6英寸Si基功率器件生長(zhǎng)線上進(jìn)行,這將進(jìn)一步降低SiC材料和器件成本,推進(jìn) SiC 器件和模塊的普及。

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▲SiC 功率器件的發(fā)展歷史

SiC 器件相對(duì)于 Si 器件的優(yōu)勢(shì)主要來(lái)自三個(gè)方面:降低電能轉(zhuǎn)換過(guò)程中的能量損耗、更容易實(shí)現(xiàn)小型化、更耐高溫高壓。

降低能量損耗。SiC 材料開(kāi)關(guān)損耗極低,全 SiC 功率模塊的開(kāi)關(guān)損耗大大低于同等IGBT模塊的開(kāi)關(guān)損耗,而且開(kāi)關(guān)頻率越高,與IGBT模塊之間的損耗差越大,這就意味著對(duì)于 IGBT 模塊不擅長(zhǎng)的高速開(kāi)關(guān)工作,全 SiC 功率模塊不僅可以大幅降低損耗還可以實(shí)現(xiàn)高速開(kāi)關(guān)。

低阻值使得更易實(shí)現(xiàn)小型化。SiC 材料具備更低的通態(tài)電阻,阻值相同的情況下可以縮小芯片的面積,SiC 功率模塊的尺寸可達(dá)到僅為 Si 的 1/10 左右。

更耐高溫。SiC 的禁帶寬度 3.23ev,相應(yīng)的本征溫度可高達(dá) 800 攝氏度,承受的溫度相對(duì) Si 更高;SiC 材料擁有 3.7W/cm/K 的熱導(dǎo)率,而硅材料的熱導(dǎo)率僅有 1.5W/cm/K,更高的熱導(dǎo)率可以帶來(lái)功率密度的顯著提升,同時(shí)散熱系統(tǒng)的設(shè)計(jì)更簡(jiǎn)單,或者直接采用自然冷卻。

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▲SiC 能大大降低功率轉(zhuǎn)換中的開(kāi)關(guān)損耗
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▲SiC 更容易實(shí)現(xiàn)模塊的小型化、更耐高溫

 

2、 SiC 產(chǎn)業(yè)鏈:歐美占據(jù)關(guān)鍵位置

SiC 生產(chǎn)過(guò)程分為 SiC 單晶生長(zhǎng)、外延層生長(zhǎng)及器件制造三大步驟,對(duì)應(yīng)的是產(chǎn)業(yè)鏈襯底、外延、器件與模組三大環(huán)節(jié)。

SiC 襯底:SiC 晶體通常用 Lely 法制造,國(guó)際主流產(chǎn)品正從 4 英寸向 6 英寸過(guò)渡,且已經(jīng)開(kāi)發(fā)出 8 英寸導(dǎo)電型襯底產(chǎn)品,國(guó)內(nèi)襯底以4 英寸為主。由于現(xiàn)有的 6 英寸的硅晶圓產(chǎn)線可以升級(jí)改造用于生產(chǎn) SiC 器件,所以 6 英寸 SiC 襯底的高市占率將維持較長(zhǎng)時(shí)間。

SiC 外延:通常用化學(xué)氣相沉積(CVD)方法制造,根據(jù)不同的摻雜類型,分為 n 型、p 型外延片。國(guó)內(nèi)瀚天天成、東莞天域已能提供 4 寸/6 寸 SiC 外延片。

SiC 器件:國(guó)際上 600~1700V SiC SBD、MOSFET 已經(jīng)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,主流產(chǎn)品耐壓水平在 1200V 以下,封裝形式以 TO 封裝為主。價(jià)格方面,國(guó)際上的 SiC 產(chǎn)品價(jià)格是對(duì)應(yīng) Si 產(chǎn)品的 5~6 倍,正以每年 10%的速度下降,隨著上游材料器件紛紛擴(kuò)產(chǎn)上線,未來(lái) 2~3年后市場(chǎng)供應(yīng)加大,價(jià)格將進(jìn)一步下降,預(yù)計(jì)價(jià)格達(dá)到對(duì)應(yīng) Si 產(chǎn)品2~3 倍時(shí),由系統(tǒng)成本減少和性能提升帶來(lái)的優(yōu)勢(shì)將推動(dòng) SiC 逐步占領(lǐng) Si 器件的市場(chǎng)空間。

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▲SiC 器件生產(chǎn)流程

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▲SiC 產(chǎn)業(yè)鏈及主要工序

全球 SiC 產(chǎn)業(yè)格局呈現(xiàn)美國(guó)、歐洲、日本三足鼎立態(tài)勢(shì)。其中美國(guó)全球獨(dú)大,全球 SiC 產(chǎn)量的 70%~80%來(lái)自美國(guó)公司,典型公司是 Cree、Ⅱ-Ⅵ;歐洲擁有完整的 SiC 襯底、外延、器件以及應(yīng)用產(chǎn)業(yè)鏈,典型公司是英飛凌、意法半導(dǎo)體等;日本是設(shè)備和模塊開(kāi)發(fā)方面的領(lǐng)先者,典型公司是羅姆半導(dǎo)體、三菱電機(jī)、富士電機(jī)等。

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▲SiC 產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)公司

 

3、SiC 市場(chǎng):汽車是最大驅(qū)動(dòng)力

SiC 器件正在廣泛地被應(yīng)用在電力電子領(lǐng)域中,典型市場(chǎng)包括軌交、功率因數(shù)校正電源(PFC)、風(fēng)電(wind)、光伏(PV)、新能源汽車(EV/HEV)、充電樁、不間斷電源(UPS)等。根據(jù) Yole 的預(yù)測(cè), 2017~2023 年,SiC 功率器件市場(chǎng)將以每年 31%的復(fù)合增長(zhǎng)率增長(zhǎng), 2023 年將超過(guò) 15億美元;而 SiC 行業(yè)龍頭 Cree 則更為樂(lè)觀,其預(yù)計(jì)短期到 2022 年,SiC 在電動(dòng)車用市場(chǎng)空間將快速成長(zhǎng)到 24 億美元,是 2017 年車用 SiC整體收入(700 萬(wàn)美元)的 342 倍。

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▲SiC 器件應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

2022 年 SiC 在電動(dòng)車市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到 24 億美金.jpg

▲2022 年 SiC 在電動(dòng)車市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到 24 億美金

SiC 是制作高溫、高頻、大功率、高壓器件的理想材料之一,技術(shù)也已經(jīng)趨于成熟,令其成為實(shí)現(xiàn)新能源汽車最佳性能的理想選擇。與傳統(tǒng)解決方案相比,基于 SiC 的解決方案使系統(tǒng)效率更高、重量更輕及結(jié)構(gòu)更加緊湊。目前 SiC 器件在 EV/HEV 上應(yīng)用主要是功率控制單元、逆變器、DC-DC 轉(zhuǎn)換器、車載充電器等方面。

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▲SiC 器件在四個(gè)關(guān)鍵領(lǐng)域提升電動(dòng)汽車的系統(tǒng)效率

新能源車的功率控制單元(PCU)。PCU 是汽車電驅(qū)系統(tǒng)的中樞神經(jīng),管理電池中的電能與電機(jī)之間的流向、傳遞速度。傳統(tǒng) PCU 使用硅基材料半導(dǎo)體制成,強(qiáng)電流與高壓電穿過(guò)硅制晶體管和二極管的時(shí)的電能損耗是混合動(dòng)力車最主要的電能損耗來(lái)源。而使用 SiC 則大大降低了這一過(guò)程中能量損失,將傳統(tǒng) PCU 配備的 Si 二極管置換成 SiC 二極管,Si IGBT 置換成 SiC MOSFET,就可以降低 10%的總能量損耗,同時(shí)也可以大幅降低器件尺寸,使得車輛更為緊湊。豐田中央研發(fā)實(shí)驗(yàn)室(CRDL)和電裝公司從 1980 年代就開(kāi)始合作開(kāi)發(fā) SiC 半導(dǎo)體材料,2014 年雙方正式發(fā)布了基于 SiC 半導(dǎo)體器件的新能源汽車 PCU,是這一領(lǐng)域的典型代表。

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▲采用 SiC 的 PCU 尺寸大大減小

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▲羅姆的 SiC 賽車用逆變器明顯降低重量及尺寸

車用逆變器。SiC 用在車用逆變器上,能夠大幅度降低逆變器尺寸及重量,做到輕量化與節(jié)能。在相同功率等級(jí)下,全 SiC 模塊的封裝尺寸顯著小于 Si模塊,同時(shí)也可以使開(kāi)關(guān)損耗降低75%(芯片溫度為 150° C);

在相同封裝下,全 SiC 模塊具備更高電流輸出能力,支持逆變器達(dá)到更高功率。特斯拉 Model 3 采用了意法半導(dǎo)體(后來(lái)增加了英飛凌)生產(chǎn)的SiC逆變器,是第一家在主逆變器中集成全SiC功率模塊的車企。2017年 12 月 2 日,ROHM 為 VENTURI 車隊(duì)在電動(dòng)汽車全球頂級(jí)賽事“FIAFormula E” 錦標(biāo)賽第四賽季中提供了采用全 SiC 功率模塊制造的逆變器,使得相對(duì)于第二賽季的逆變器尺寸下降 43%,重量輕了 6kg。

車載充電器。SiC 功率器件正在加速其在車載充電器領(lǐng)域的應(yīng)用趨勢(shì),在今年的功率器件展 PCIM Europe 2018(2018 年 6 月 5~7 日在德國(guó)紐倫堡舉行)上,多家廠商推出了面向 HEV/EV 等電動(dòng)汽車充電器的 SiC功率器件產(chǎn)品。據(jù) Yole 統(tǒng)計(jì),截至 2018 年有超過(guò) 20 家汽車廠商在自家車載充電器中采用 SiC SBD 或 SiC MOSFET 器件,且這一市場(chǎng)在2023 年之前保持 44%的增長(zhǎng)。

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▲超過(guò) 20 家汽車制造商在車載充電器中采用 SiC

 

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GaN:5G 應(yīng)用的關(guān)鍵材料

1、 GaN:5G 應(yīng)用的關(guān)鍵材料

GaN 材料與 Si/SiC 相比有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。GaN 與 SiC 同屬于第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,相較于已經(jīng)發(fā)展十多年的 SiC,GaN 功率器件是后進(jìn)者,它擁有類似 SiC 性能優(yōu)勢(shì)的寬禁帶材料,但擁有更大的成本控制潛力。與傳統(tǒng) Si 材料相比,基于 GaN 材料制備的功率器件擁有更高的功率密度輸出,以及更高的能量轉(zhuǎn)換效率,并可以使系統(tǒng)小型化、輕量化,有效降低電力電子裝置的體積和重量,從而極大降低系統(tǒng)制作及生產(chǎn)成本。

GaN 是極穩(wěn)定的化合物,又是堅(jiān)硬的高熔點(diǎn)材料,熔點(diǎn)約為 1700℃,GaN 具有高的電離度,在Ⅲ—Ⅴ族化合物中是最高的(0.5 或 0.43)。在大氣壓力下,GaN 晶體一般是六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)。

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▲GaN 原胞結(jié)構(gòu)

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▲典型 GaN HEMT 結(jié)構(gòu)

GaN 器件逐步步入成熟階段。基于 GaN 的 LED 自上世紀(jì) 90 年代開(kāi)始大放異彩,目前已是 LED 的主流,自 20 世紀(jì)初以來(lái),GaN 功率器件已經(jīng)逐步商業(yè)化。2010 年,第一個(gè) GaN 功率器件由 IR 投入市場(chǎng),2014年以后,600V GaN HEMT 已經(jīng)成為 GaN 器件主流。2014 年,行業(yè)首次在 8 英寸 SiC 上生長(zhǎng) GaN 器件。

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▲GaN 器件逐步步入成熟階段

隨著成本降低,GaN 市場(chǎng)空間持續(xù)放大。GaN 與 SiC、Si 材料各有其優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域,但是也有重疊的地方。GaN 材料電子飽和漂移速率最高,適合高頻率應(yīng)用場(chǎng)景,但是在高壓高功率場(chǎng)景不如 SiC;隨著成本的下降,GaN 有望在中低功率領(lǐng)域替代二極管、IGBT、MOSFET 等硅基功率器件。以電壓來(lái)分,0~300V 是 Si 材料占據(jù)優(yōu)勢(shì),600V 以上是 SiC 占據(jù)優(yōu)勢(shì),300V~600V 之間則是 GaN 材料的優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域。根據(jù) Yole 估計(jì),在0~900V 的低壓市場(chǎng),GaN 都有較大的應(yīng)用潛力,這一塊占據(jù)整個(gè)功率市場(chǎng)約 68%的比重,按照整體市場(chǎng) 154 億美元來(lái)看,GaN 潛在市場(chǎng)超過(guò) 100 億美元。

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▲GaN 器件可以適用于超過(guò) 68%的功率器件市場(chǎng)

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▲不同功率器件所處的優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域

GaN RF 市場(chǎng)即將大放異彩。根據(jù) Yole 估計(jì),大多數(shù)低于 6GHz 的宏網(wǎng)絡(luò)單元實(shí)施將使用 GaN 器件,到 2023 年,GaN RF 器件市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到 13 億美元。

 

GaN RF 市場(chǎng)規(guī)模于 2023 年達(dá)到 13 億美金.jpg

▲GaN RF 市場(chǎng)規(guī)模于 2023 年達(dá)到 13 億美金

2、GaN 在電力電子領(lǐng)域與微波射頻領(lǐng)域均有優(yōu)勢(shì)

GaN 在電力電子領(lǐng)域主要優(yōu)勢(shì)在于高效率、低損耗與高頻率。GaN 材料的這一特性使得其在消費(fèi)電子充電器、新能源充電樁、數(shù)據(jù)中心等領(lǐng)域具有很大的應(yīng)用前景。

高轉(zhuǎn)換效率:GaN 的禁帶寬度是 Si 的 3 倍,擊穿電場(chǎng)是 Si 的 10倍。因此,同樣額定電壓的 GaN 開(kāi)關(guān)功率器件的導(dǎo)通電阻比 Si 器件低 3 個(gè)數(shù)量級(jí),大大降低了開(kāi)關(guān)的導(dǎo)通損耗。

低導(dǎo)通損耗:GaN 的禁帶寬度是 Si 的 3 倍,擊穿電場(chǎng)是 Si 的 10倍。因此,同樣額定電壓的 GaN 開(kāi)關(guān)功率器件的導(dǎo)通電阻比 Si 器件低 3 個(gè)數(shù)量級(jí),大大降低了開(kāi)關(guān)的導(dǎo)通損耗。

高工作頻率:GaN 開(kāi)關(guān)器件寄生電容小,工作效率可以比 Si 器件提升至少 20 倍,大大減小了電路中儲(chǔ)能原件如電容、電感的體積,從而成倍地減少設(shè)備體積,減少銅等貴重原材料的消耗。

Si 功率器件開(kāi)關(guān)速度慢,能量損耗大.jpg

▲Si 功率器件開(kāi)關(guān)速度慢,能量損耗大

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▲ GaN 開(kāi)關(guān)速度快,可大幅度提升效率

GaN 在微波射頻領(lǐng)域主要優(yōu)勢(shì)在于高效率、大帶寬與高功率。為射頻元件材料,GaN 在電信基礎(chǔ)設(shè)施和國(guó)防軍工方面應(yīng)用已經(jīng)逐步鋪展開(kāi)來(lái)。

更高效率:降低功耗,節(jié)省電能,降低散熱成本,降低總運(yùn)行成本。

更大的帶寬:提高信息攜帶量,用更少的器件實(shí)現(xiàn)多頻率覆蓋,降低客戶產(chǎn)品成本。也適用于擴(kuò)頻通信、電子對(duì)抗等領(lǐng)域。

更高的功率:在 4GHz 以上頻段,可以輸出比 GaAs 高得多的頻率,特別適合雷達(dá)、衛(wèi)星通信、中繼通信等領(lǐng)域。

GaN 器件在電力電子領(lǐng)域與微波射頻領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì).jpg

▲GaN 器件在電力電子領(lǐng)域與微波射頻領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)

 

3、GaN 市場(chǎng):射頻是主戰(zhàn)場(chǎng),5G 是重要機(jī)遇

GaN 是射頻器件的合適材料。目前射頻市場(chǎng)主要有三種工藝:GaAs 工藝,基于 Si 的 LDMOS(橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體)工藝,以及 GaN工藝。GaAs 器件的缺點(diǎn)是器件功率較低,低于 50W。LDMOS 器件的缺點(diǎn)是工作頻率存在極限,最高有效頻率在 3GHz 以下。GaN 彌補(bǔ)了GaAs 和 Si 基 LDMOS 兩種老式技術(shù)之間的缺陷,在體現(xiàn) GaAs 高頻性能的同時(shí),結(jié)合了 Si 基 LDMOS 的功率處理能力。

在射頻 PA 市場(chǎng), LDMOS PA 帶寬會(huì)隨著頻率的增加而大幅減少,僅在不超過(guò)約 3.5GHz 的頻率范圍內(nèi)有效,采用 0.25 微米工藝的 GaN 器件頻率可以高達(dá)其 4 倍,帶寬可增加 20%,功率密度可達(dá) 6~8 W/mm(LDMOS 為 1~2W/mm),且無(wú)故障工作時(shí)間可達(dá) 100 萬(wàn)小時(shí),更耐用,綜合性能優(yōu)勢(shì)明顯。

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▲使用 GaN 前后的效率對(duì)比

在更高的頻段(以及低功率范圍),GaAs PA 是目前市場(chǎng)主流,出貨占比占 9 成以上。GaAs RF 器件相比,GaN 優(yōu)勢(shì)主要在于帶隙寬度與熱導(dǎo)率。帶隙寬度方面,GaN 的帶隙電壓高于 GaAs(3.4 eV VS1.42 eV) GaN 器件具有更高的擊穿電壓,能滿足更高的功率需求。熱導(dǎo)率方面,GaN-on-SiC 的熱導(dǎo)率遠(yuǎn)高于 GaAs,這意味著器件中的功耗可以更容易地轉(zhuǎn)移到周圍環(huán)境中,散熱性更好。

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▲多級(jí) GaAs 功率放大器和等效 GaN 功率放大器的比較

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▲GaN 優(yōu)勢(shì)在于帶隙寬度與熱導(dǎo)率

GaN 是 5G 應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)。5G 將帶來(lái)半導(dǎo)體材料革命性的變化,隨著通訊頻段向高頻遷移,基站和通信設(shè)備需要支持高頻性能的射頻器件,GaN 的優(yōu)勢(shì)將逐步凸顯,這正是前一節(jié)討論的地方。正是這一優(yōu)勢(shì),使得 GaN 成為 5G 的關(guān)鍵技術(shù)。

在 Massive MIMO 應(yīng)用中,基站收發(fā)信機(jī)上使用大數(shù)量(如 32/64 等)的陣列天線來(lái)實(shí)現(xiàn)了更大的無(wú)線數(shù)據(jù)流量和連接可靠性,這種架構(gòu)需要相應(yīng)的射頻收發(fā)單元陣列配套,因此射頻器件的數(shù)量將大為增加,使得器件的尺寸大小很關(guān)鍵,利用 GaN 的尺寸小、效率高和功率密度大的特點(diǎn)可實(shí)現(xiàn)高集化的解決方案,如模塊化射頻前端器件。除了基站射頻收發(fā)單元陳列中所需的射頻器件數(shù)量大為增加,基站密度和基站數(shù)量也會(huì)大為增加,因此相比 3G、4G 時(shí)代,5G 時(shí)代的射頻器件將會(huì)以幾十倍、甚至上百倍的數(shù)量增加。在 5G 毫米波應(yīng)用上,GaN 的高功率密度特性在實(shí)現(xiàn)相同覆蓋條件及用戶追蹤功能下,可有效減少收發(fā)通道數(shù)及整體方案的尺寸。

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▲GaN 在 5G 時(shí)代應(yīng)用廣泛

GaN 材料 5G 基站發(fā)展趨勢(shì).jpg

▲GaN 材料 5G 基站發(fā)展趨勢(shì)

GaN 在電力電子器件領(lǐng)域多用于電源設(shè)備。由于結(jié)構(gòu)中包含可以實(shí)現(xiàn)高速性能的異質(zhì)結(jié)二維電子氣,GaN 器件相比于 SiC 器件擁有更高的工作頻率,加之可承受電壓要低于 SiC 器件,所以 GaN 電力電子器件更適合高頻率、小體積、成本敏感、功率要求低的電源領(lǐng)域,如輕量化的消費(fèi)電子電源適配器、無(wú)人機(jī)用超輕電源、無(wú)線充電設(shè)備等。

GaN 電力電子器件增速最快的是快充市場(chǎng)。2018 年,世界第一家 GaNIC 廠商 Navitas 和 Exagan 推出了帶有集成 GaN 解決方案(GaNFast?)的 45W 快速充電電源適配器,此 45W 充電器與 Apple USB-C 充電器相比,兩者功率相差不大,但是體積上完全是不同的級(jí)別,內(nèi)置 GaN 充電器比蘋(píng)果充電器體積減少 40%。目前來(lái)看,采用 GaN 材料的快速充電器已成星火燎原之勢(shì),有望成為行業(yè)主流。
(文章來(lái)源于:今日半導(dǎo)體)

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